Высокая стабильность оборудования / Хорошая однородность температуры / Высокая скорость нагрева / Высокая точность управления / Хорошие показатели безопасности

Термически индуцированное химическое осаждение из паровой фазы (CVD) является мощным методом нанесения защитных покрытий на различные диэлектрики, полупроводники и металлические материалы, будь то в монокристаллическом, поликристаллическом, аморфном или эпитаксиальном состоянии, в больших или малых формах. Типичные материалы покрытия включают пиролитический углерод, карбид кремния и нитрид бора. Благодаря использованию синтетических прекурсоров покрытие получается очень чистым и соответствует типичным требованиям полупроводниковой промышленности. В зависимости от параметров процесса может быть несколько слоев, от одного или нескольких атомных слоев до твердых защитных или функциональных слоев толщиной от 10 нанометров до сотен микрометров, а также однокристальные компоненты толщиной до 100 микрометров и даже до нескольких миллиметров.
Термическая химическая инфильтрация паров (CVI) — это метод, родственный химическому осаждению из газовой фазы, который включает инфильтрацию пористых или волокнистых заготовок в матричный материал для изготовления компонентов из композитных материалов с улучшенными механическими свойствами, коррозионной стойкостью, термостойкостью к ударам и низким остаточным напряжением.

Использование вертикальной конструкции с нижним/верхним открыванием двери: высокая точность загрузки и выгрузки, простота эксплуатации;

Используя передовую технологию управления, он может точно контролировать поток и давление MTS, стабилизировать поток седиментационного воздуха в печи и иметь небольшой диапазон колебаний давления;

Хорошая однородность температуры: средняя однородность температуры составляет ±5 °C;

Принятие многоканального пути седиментационного газа, поле потока однородное, нет мертвых зон седиментации, и эффект седиментации хороший;
Полностью закрытая седиментационная камера с хорошим эффектом герметизации и сильной способностью против загрязнения;

Хорошие показатели безопасности: применение HMI+PLC+PID-регулирования давления, безопасное и надежное;

Эффективно очищает высококоррозионные выхлопные газы, легковоспламеняющиеся и взрывоопасные газы, твердую пыль и вязкие продукты с низкой температурой плавления, образующиеся в результате осаждения;

Многоступенчатая эффективная система очистки выхлопных газов, экологически чистая, способна эффективно собирать смолу и побочные продукты, легко очищается;

Использование коррозионно-стойкого вакуумного агрегата с длительным сроком непрерывной работы и чрезвычайно низкими затратами на техническое обслуживание;

Печи химического осаждения из паровой фазы (карбид кремния) могут использоваться для поверхностных окислительно-стойких покрытий и модификации матрицы материалов с использованием силана в качестве источника газа. Вертикальная печь химического осаждения из паровой фазы (осадочный углерод) может использоваться для материалов, использующих углеводородные газы (такие как C3H8, CH4 и т. д.) в качестве источников углерода.

Поверхностная или подложечная изотермическая обработка CVD/CVI. Горизонтальные печи химического осаждения из паровой фазы (SiC, BN) могут использоваться для покрытия поверхности материалов, модификации матриц, подготовки композитных материалов и т. д. Подложки для эпитаксиальных пластин, высокотемпературные огнеупорные материалы для кристаллических печей, формы для горячей гибки, полупроводниковые тигли, композитные материалы на основе керамики и т. д.